В России появится свой литограф для производства чипов по нормам 28 и 16 нм

31 декабря 2022

Научная работа завершена, технологический принцип подтверждён, теперь задачей будет создание уже прототипа оборудования для фактического производства.

В России скоро появится свой совремнный безмасочный рентгеновский литограф для производства чипов. Идея заключается в том, чтобы заменить оборудование компании ASML (Нидерланды). 

Напомним, современное оборудование для печати процессоров зарубежные производители нам продавать не хотят. Россия долго не могла создать никакой альтернативы зарубежным производителям. И вот дело сдвинулось. В настоящее время Разработан облик безмасочного рентгеновского литографа на основе точечного лазерно-плазменного источника излучения на 13,5 нм и микроэлектромеханической системы микрозеркал в качестве динамической маски. 

Ключевые узлы безмасочного рентгеновского литографа - это источник рентгеновского излучения нужной длины волны и чип микрозеркал, формирующих изображение на фоторезисте. Созданный проекционный трехзеркальный объектив с 400-кратным уменьшением обеспечивает разрешение литографа до 20 нм.

Таким образом, в России скоро появится свой совремнный безмасочный рентгеновский литограф для производства чипов по нормам 28 и 16 нм. В настоящее время подтверждены основные принципы, заложенные в конструкцию безмасочного рентгеновского литографа, что позволяет приступить к этапу опытно-конструкторских работ по разработке литографа для мелкосерийного производства компонент микро- и наноэлектроники.

Возрастное ограничение: 16+

В наших соцсетях всё самое интересное!